重大突破！我国新一代光刻机模型亮相性能直追国际标杆

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重大突破我国新一代光刻机模型亮相，性能直追国际标杆

第九届进博会上海微电子（SMEE）展出 SSC800（KrF）、SSB800（I-line）新一代前道干式扫描投影光刻机透明剖视模型，这个模型是实物原型的浏览全文>>

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