不玩EUV了佳能推出高性能KrF光刻机：套刻精度可达4nm

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佳能新款 KrF 光刻机 FPA-6400ES6a 解读放弃 EUV 路线，套刻精度达到 4nm

佳能这款新机型 FPA-6400ES6a 属于 KrF（248nm）DUV 扫描式光刻机，它4nm 指的是套刻（Overlay）对齐精度，不是能直接曝光 4nm 芯片浏览全文>>

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